Parmi les éléments suivants, lequel est typiquement utilisé pour le dopage du silicium ?

Pour comprendre la réponse

Le bore est correct car il possède trois électrons de valence, soit un de moins que les quatre du silicium. Lorsque des atomes de bore remplacent le silicium dans le réseau cristallin, chacun crée un "trou" (un électron manquant) qui peut se déplacer dans le réseau en transportant une charge positive. Cela rend le silicium de type p : ses porteurs de charge majoritaires sont des trous. Le niveau accepteur du bore se situe juste au-dessus de la bande de valence ; à température ambiante, il crée donc facilement des trous et augmente la conductivité de manière contrôlée.